该技术是动、静态结合的高纯氮化硅粉体烧结工艺,其目的是使炉内反应气体保持一定的比例关系;提高控制精度,在静态时控制反应速度,动态时换气。
采用该技术生产的氮化硅粉性能指标已经接近目前德国m11粉,超过日本danka粉,产品已经出口美国。
该产品纯度高、颗粒细度小、比表面积大,烧结活性及烧结体的性能已达到国际水平:结晶相纯度α相=95%,游离si≤0.5%,fe2o3≤0.1%, cao≤0.05%,o≤1.5%,平均粒度d50≤0.35μm,粒径分布d90=0.9μm,d99=1.6μm,比表面积bet≥11.5m2/g,粒度与日本宇部兴产株式会社(ube)粉相近,但是差别小且更易于胶态成型。
该产品主要用于制造生产耐磨、耐高温工件,如用于机加工陶瓷刀具、耐热销、摩擦环、导弹雷达罩、轴承滚珠等。
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