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半导体陶瓷、层叠型半导体陶瓷电容器的制造方法

申请号/专利号: 200780000966

  本发明提供一种半导体陶瓷,施主元素相对于Ti元素100摩尔,在0.8~2.0摩尔的范围中固溶在晶粒中,受主元素以比所述施主元素更少的量固溶在晶粒中,受主元素以相对于Ti元素100摩尔,在0.3~1.0摩尔的范围中存在于晶界中,晶粒的平均粒径为1.0μm以下。使用该半导体陶瓷,取得层叠型半导体陶瓷电容器。这时,在进行还原煅烧的一次煅烧处理中,把冷却开始时的氧分压设定为煅烧过程的氧分压的1.0×10↑[4]倍以上,进行冷却处理。据此,实现即使晶粒的平均粒径微粒化到1.0μm以下,也具有5000以上的表观相对介电常数εr↓[APP]和10以上的比电阻logρ(ρ:ω·cm)的SrTiO↓[3]类晶界绝缘型的半导体陶瓷和使用它的层叠型半导体陶瓷电容器、它们的制造方法。

申请日: 2007年05月28日

公开日: 2009年01月14日

授权公告日: 

申请人/专利权人: 株式会社村田制作所

申请人地址: 日本京都府

发明设计人: 川本光俊

专利代理机构: 中科专利商标代理有限责任公司

代理人: 李香兰

专利类型: 发明专利

分类号: c04b35/47;h01g4/12


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